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AMOLED驱动芯片设计三环节,国产技术如何突破三星专利墙?

BigNews 01.24 08:34

国产AMOLED驱动芯片通过架构创新、工艺替代和产业链协同三大路径突破三星专利壁垒,尤其在混合键合、无掩膜光刻等原创技术上实现反向授权里程碑。

一、AMOLED驱动芯片设计的核心三环节

设计环节

涉及电路架构设计、驱动补偿算法开发及像素补偿电路布局。国产企业通过自研RAM-less架构(取消外置RAM降低芯片成本)、高精度驱动补偿算法(解决OLED材料均匀性问题),以及嵌入式RRAM驱动芯片(缩减芯片面积30%),提升芯片性能并规避传统设计专利。

补偿环节

关键在解决像素老化、色偏和亮度衰减问题。国内采用Tandem叠层器件结构(寿命提升6倍),结合实时色彩管理算法(校正绿色过饱和),部分技术指标超越三星,如维信诺ViP技术实现JNCD<1.0的专业级色准。

制造与封装环节

包含流片生产和封装测试。国产化依赖成熟制程(55nm/28nm),中芯国际、华虹提供产能支持;先进封装采用混合键合(Hybrid Bonding)技术,缩短电路路径并提升散热性,如华为掩膜堆叠封装突破晶体管密度限制。

二、突破三星专利墙的四大路径

原创技术颠覆传统工艺

混合键合技术:长江存储Xtacking专利将存储单元与控制电路分片制造再键合,绕开三星COP(Cell on Peripheral)专利,被三星V10 NAND采用并支付授权费。

无掩膜光刻工艺:维信诺ViP技术替代三星主导的FMM(精细金属掩膜版),实现1700ppi分辨率和异形切割,突破尺寸与精度专利壁垒。

产业链自主化协同攻关

设备材料国产替代:中微公司刻蚀机(5nm节点)、芯源微涂胶显影设备(打破东京电子垄断)支撑国产产线;南大光电ArF光刻胶(14nm验证)降低材料依赖。

产线全国产化:长江存储联合北方华创、华海清科等建成首条国产化产线,覆盖14nm以上制程,摆脱三星设备封锁。

专利生态构建与反向授权

云英谷全球专利布局(中美日欧注册51项),长江存储通过收购奇梦达专利、跳代研发LPDDR5X芯片,形成专利交叉许可筹码,迫使三星签署混合键合许可协议。

新兴技术赛道换道超车

纤维芯片(复旦大学)、模拟矩阵计算芯片(北大)绕过光刻机限制;Micro-OLED/Micro-LED驱动背板(云英谷全球份额40.7%),开辟AR/VR等三星弱势领域。

三、突围成效与市场影响

技术话语权反转:三星向长江存储支付专利费、华为OLED驱动芯片量产打破三星屏幕绑定。

市场份额攀升:2025年国产OLED全球占比超40%,云英谷AMOLED驱动芯片成全球第五大供应商。

成本重构:国产RAM-less架构、无FMM工艺降低屏体成本,加速AMOLED向中低端手机渗透。

当前挑战仍存:高端蓝光材料、蒸镀设备(日本Tokki垄断)依赖进口,需持续攻坚材料设备“最后一公里”。 (以上内容均由AI生成)

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